多年d)~50%应变试样以及过渡区和基体材料的LAADF-STEM图。

图3（e）得出Ni3S2@GCNs/NF,Ni3S2@NGCLs/NF、后发幻片镍泡沫和RuO2/NF的电荷转移电阻（Rct）分别为4.7、1.25、1.45和1.7Ω。因此，不少通过循环和计时电流试验证明了Ni3S2@NGCLs/NF的高稳定性和耐用性。

作为一种可行的方案，多年利用化学气相沉积（CVD）技术构建金属化合物@类石墨烯碳层复合结构引起了极大的兴趣。氢能利用有多种形式，后发幻片包括燃烧热能、氢燃料电池或作为结构材料的固体氢。不少水分解过程包括阴极析氢反应（HER）和阳极析氧反应（OER）两部分。

多年Ni3S2@NGCLs/NF以及Ni3S2@GCNs/NF的表面镍和氮的价态如图2（g）和图2（h）所示。10毫安平方厘米时Ni3S2@GCNs/NF泡沫镍和RuO2/NF的实际过电位也以相同的方式进行评估，后发幻片分别为398、381和368mV。

特别是多层碳的类石墨烯结构减缓了Ni3S2在电解液中的溶解，不少致使活性相组分（NiOOH）的可控形成。

多年图3（a）显示了扫描速率为5mV/s时这些样品的线性伏安曲线。后发幻片C=C-C键可能导致在284.66eV出现峰值。

如果采用金属掺杂，不少则会出现晶体缺陷。多年N1s谱(图3B)清楚地证明了氮原子存在于三种化学环境。

图5：后发幻片光解制氢图表:(A)CN(B)PCN-S-1(C)PCN-S-2(D)PCN-S-3(E)标准曲线 (F)峰面积与氢含量的关系曲线光催化制氢样品的气相色谱图如图4A，4B，4C，4D所示。原因是助催化剂可以作为产氢的活性点，不少光生电子将注入到助催化剂中，不少使光生载流子重新分布，从而使更多的活性载流子可以参与光催化反应，提高光催化活性。